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论文标题： 金属Hf制备HfO2技术 ( F7 s7 z/ l) C7 ]. c8 F' |% }
. W& {6 c* \ H7 j0 ?/ u0 V作者： 张伟丽, 上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800 范瑞瑛, 上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800 黄建兵, 上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800 赵元安, 上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800 邵建达, 上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800 范正修, 上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800
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会议名称： 第八届全国激光科学技术青年学术交流会 ) p; y4 g' G! ?, E' t+ w
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主办单位： 中国物理学会 中国电子学会 中国光学学会 ! C3 N. H q% s8 ?" e1 g% u
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会议时间： 20051114 4 G7 i0 p3 J7 m
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会议地点： 福州
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# |' T. I* G" X' E, \1 U' S母体文献： 第八届全国激光科学技术青年学术交流会论文集 p$ `1 `, i$ e- X$ I$ M" B, V
0 i- r' U# t b6 ~出版时间： 20051114 % K. e+ r. K: B$ N, g7 z4 W
5 N" H7 t* X8 C6 \, I* a5 }& _页码： 291-294 % R2 `, a3 [. L( p2 J
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关键词： 金属Hf HfO2薄膜 激光损伤阈值 ( L, w. f9 @; B$ Z, q9 U
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摘要： 利用离子束辅助蒸发以及双离子束反应溅射沉积技术通过Hf制备了HfO2薄膜,对两种工艺下制备的HfO2薄膜的光学、表面形貌和激光损伤特性进行了研究,并与常用的电子束蒸发制备的HfO2薄膜的相关特性进行了比较.实验结果表明,用金属Hf作为初始材料反应沉积的HfO2薄膜具有较高的激光损伤阈值,其中离子束辅助蒸发技术更加适用于高功率激光系统中尤其是神光系统中大尺寸元件的薄膜制备. |
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发表于 2009-7-2 04:58:55
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