[VIP资源]硕士论文下载:离子束技术在超低损耗薄膜中的应用(威望>80)

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[/free][hide=80]离子束技术在超低损耗薄膜中的应用

【英文题名】 Application of Ion Beam Technology in Ultra-low Loss Films
【作者中文名】刘政;
【导师】刘卫国; 杭凌侠;
【学位授予单位】西安工业大学;
【学科专业名称】光学工程
【学位年度】 2007
【论文级别】硕士
【网络出版投稿人】西安工业大学
【网络出版投稿时间】 2007-12-19
【关键词】离子束辅助沉积技术; 超低损耗薄膜; 离子能量; 束流密度; 薄膜特性;
【英文关键词】 ion beam aided deposition technology; ultra-low loss film; ion energy; ion

beam flux density; thin films character;
【中文摘要】超低损耗薄膜在光学仪器中得到了越来越广泛的应用。离子束辅助沉积技术是在真空镀膜

的基础上发展起来的,克服了传统热蒸发技术存在的缺点,成本低廉。在光学薄膜的制备中发挥着越来越重

要的作用,应用于薄膜制备过程中的各个方面。因此,研究离子束辅助沉积对于薄膜的损耗的影响具有很好

的应用前景。本文基于单层膜的矩阵,利用菲涅耳公式从理论上推导了光波垂直入射时薄膜的吸收损耗和

散射损耗理论公式;制备了不同离子参数辅助下的单层薄膜,研究离子参数(离子能量和束流密度)对于薄膜

损耗的影响。研究结果表明,HfO_2、SiO_2、Ta_2O_5薄膜的折射率随离子能量和束流密度的增加而增

加;HfO_2、SiO_2薄膜的消光系数随离子能量和束流密度的增加出现了减小,再增大,再减小,再增大的变化

,即薄膜吸收损耗是一个反复变化的过程;薄膜的表面形貌分析显示,离子能量和束流密度的增加改善了薄

膜表面的粗糙度,但是这种改善是轻微的;与传统热蒸发技术相比,离子辅助技术大大降低了薄膜的损耗,低

离子能量高束流密度有利于沉积高质量的薄膜;HfO_2与SiO_2薄膜的实验结果相比, SiO_2薄膜的折射率、

消光系数对于离子能量和束流密...
【英文摘要】 The ultra-low loss films is widely used in optical instruments. Ion beam

technology has been developed from traditional vacuum deposition,and overcomed the

shortcoming of traditional vacuum deposition and low cost. Now, it plays an more and more

important role in the deposition of the thin films, and has been applyed to all respects of

films deposition. So, it has very good application prospects to study the influence of ion

beam aided deposition on loss of films. In this paper, based on matrix of...
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ycxmy · 发表于 2008-4-2 20:44:58

有钱人啊
　　　　
　　　　
　　　

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gds 该用户已被删除	发表于 2008-3-29 21:08:48 \| 显示全部楼层 \|阅读模式 [/free][hide=80]离子束技术在超低损耗薄膜中的应用【英文题名】 Application of Ion Beam Technology in Ultra-low Loss Films 【作者中文名】刘政; 【导师】刘卫国; 杭凌侠; 【学位授予单位】西安工业大学; 【学科专业名称】光学工程【学位年度】 2007 【论文级别】硕士【网络出版投稿人】西安工业大学【网络出版投稿时间】 2007-12-19 【关键词】离子束辅助沉积技术; 超低损耗薄膜; 离子能量; 束流密度; 薄膜特性; 【英文关键词】 ion beam aided deposition technology; ultra-low loss film; ion energy; ion beam flux density; thin films character; 【中文摘要】超低损耗薄膜在光学仪器中得到了越来越广泛的应用。离子束辅助沉积技术是在真空镀膜的基础上发展起来的,克服了传统热蒸发技术存在的缺点,成本低廉。在光学薄膜的制备中发挥着越来越重要的作用,应用于薄膜制备过程中的各个方面。因此,研究离子束辅助沉积对于薄膜的损耗的影响具有很好的应用前景。本文基于单层膜的矩阵,利用菲涅耳公式从理论上推导了光波垂直入射时薄膜的吸收损耗和散射损耗理论公式;制备了不同离子参数辅助下的单层薄膜,研究离子参数(离子能量和束流密度)对于薄膜损耗的影响。研究结果表明,HfO_2、SiO_2、Ta_2O_5薄膜的折射率随离子能量和束流密度的增加而增加;HfO_2、SiO_2薄膜的消光系数随离子能量和束流密度的增加出现了减小,再增大,再减小,再增大的变化 ,即薄膜吸收损耗是一个反复变化的过程;薄膜的表面形貌分析显示,离子能量和束流密度的增加改善了薄膜表面的粗糙度,但是这种改善是轻微的;与传统热蒸发技术相比,离子辅助技术大大降低了薄膜的损耗,低离子能量高束流密度有利于沉积高质量的薄膜;HfO_2与SiO_2薄膜的实验结果相比, SiO_2薄膜的折射率、消光系数对于离子能量和束流密... 【英文摘要】 The ultra-low loss films is widely used in optical instruments. Ion beam technology has been developed from traditional vacuum deposition,and overcomed the shortcoming of traditional vacuum deposition and low cost. Now, it plays an more and more important role in the deposition of the thin films, and has been applyed to all respects of films deposition. So, it has very good application prospects to study the influence of ion beam aided deposition on loss of films. In this paper, based on matrix of... [/hide][free] 购买主题本主题需向作者支付 400 RMB金钱才能浏览
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