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薄膜材料
4 W1 j3 `9 D. l, U* ?/ uL.B.弗洛伊德 S.苏尔施 6 t1 Z. T% b: J2 V! t, c
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L. B. Freund, Division of Engineering, Brown University % d, i# r" U- ^- h
S.Suresh, Department of Materials Science and Engineering, Massachusetts Institute Technology # A9 ]9 ]; G3 h' G, B9 q! l
Thin Film Materials 7 Q( N9 S3 h3 @. U1 U% s3 ~
Stress, Defect Formation and Surface Evolution ( h# e9 M' z, i J# ^! ^
2003, 750pp.
) O, B+ I8 ], B$ l5 w Hardcover GBP 45.00
1 b# H9 `' a% ^$ Q0 k* x9 X" S+ ? ISBN 0-521-82281-5 ) C |! l( c! A7 f
Cambridge
% O. K+ d7 l* n% y8 ] 薄膜材料在电子、微电子、磁记录和表面涂层等领域具有广泛而重要的用途。自20世纪70年代以来,薄膜材料取得飞速的发展,现在,薄膜材料已经成为材料科学中最活跃的研究领域之一。本书全面概括了几十年来薄膜材料的发展情况,详细地研究了薄膜中应力、变形及表面评价方面的主要问题与发展方向,特别是应力产生及由此导致的不良结果(包括变形、断裂、永久变形及微结构的改变等)。 7 l6 k9 j! L! O0 g
全书分为9章。第1章介绍了薄膜沉积方法等,并阐述了薄膜材料中残余应力产生的原因及材料制备方法与应力产生的关系;第2、3章研究了薄膜?基底体系或多层结构中变形情况;第4、5章考察了薄膜断裂、分层和成小丘的失效模型;第6章主要从小尺度,讨论了薄膜中位错的形成条件;第7章主要研究薄膜中的非弹性变形问题;第8、9章讨论了材料表面稳定性及表面形貌变化问题。 0 S! f, O# | _5 u3 k
本书内容新颖、紧跟研究前沿、理论联系实际,论述深刻透彻,且每章后都设计了一定量的练习,可作为从事薄膜材料方面的研究人员的参考书,对工程技术人员也颇有裨益,并可用作研究生和高年级本科生教材。 |
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