硕士论文：大口径光学薄膜均匀性的研究

[/free]大口径光学薄膜均匀性的研究
   摘 要
    本文的研究内容主要包括:大口径光学薄膜厚度的分布及其均匀性修
正，蒸发源蒸发特性的模拟和实验验证以及薄膜光学不均匀性的修正。
    在镀制光学薄膜的时候.膜厚均匀性是一个重要问题。膜厚的均匀性不
好，将严重影响薄膜的特性。膜厚均匀性是指膜厚随基板表面位置的变化，
它和蒸发源与基板之间的配置以及蒸发特性有关。
    本文对一般常用的平面转动夹具进行了理论分析和实验验证，并根据薄
膜厚度的实验分布结果，设计了改善高反膜膜厚均匀性的修正挡板。
    蒸发源的蒸发特性是光学薄膜均匀性的重要影响因素，本文对蒸发源的
蒸发特性和蒸发过程中出现的挖坑效应进行了模拟，并进行了实验验证。由
此得到的结论对于实际镀膜有着很强的指导意义。
    理论上分析了薄膜光学不均匀性的原因，提出用针对不同材料的单独挡
板来同时修正薄膜的厚度和光学不均匀性，现己设计出所需的机械机构并进
行调试和实验验证。
关键词:光学薄膜，均匀性，电子束，蒸发源，修正挡板
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