高功率电子束系统制备薄膜

高功率电子束系统制备薄膜
加州圣克拉拉市 FmTo~ 公司开发出了两种重要的可供选择的改进型电子束蒸发系统。
EV M-tO是一种高功率多炉膛电子束源，是大容积真空膛的多功能新型蒸发平台。具有专利
权的高精度磁场调控技术提供更高的电子束精度，电子束斑点更小，更精确的电子束入射角。
电子束蒸发系统采用高压 (通常是 10，000V／500mA)和高电流 (通常是 5O l2V)蒸发
6 ^4 l6 ?) H; g8 G金属。当金属蒸汽凝结在基体时，形成一层薄膜，可以耐刮擦，并且具有光滤或其他独特的
1 {' l; ?% g5 X' C. D性能。EV M．】O电子束源为适应大量的电子束涂层应用进行了优化，具备了综合的多炉膛穿
" R$ u2 h+ h2 r7 o3 H0 p透组合，整合了光学定位、水冷、大功率坩埚，以及能适应客户特殊坩埚设计的支架。