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选择光学薄膜的几点建议
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( [2 e1 w, _# Y- C粒子沉淀和其他变量的重要性
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好的钻膜既有足够的研磨力度制作插芯端,又可以将擦伤减低到几乎不存在。% x7 d. m6 |0 G6 P+ @$ B
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PET还有高耐力、低热导的特点。高耐力使得膜片可以多次使用或者在更大强度的环境下使用,而效果保持一样。低热导很重要,因为膜片越是作为研磨摩擦产生的热的导体时,其他的变量越会受到影响,即使是很小的比例。这在自动研磨系统中特别重要。6 K( ]# Z2 c; m6 l; A5 q- F8 u$ F
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许多变量会影响研磨技术的结果。关键的因素包括研磨机(其速度、压力、定时器和其他因素),研磨垫的硬度计以及研磨片。每个膜片有几个相关变量,这都很影响研磨效果。这些变量包括基材料、研磨类型或者研磨微粒,粒子尺寸,均匀度和粒子沉淀整个膜片中的密度。请继续阅读以下内容,是我们关于选择一种适合您研磨机制的膜片的几点建议。: e% h2 C6 U( d: T: D' T, K ?* Z
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基材料& t( l( M& }) t$ @$ N
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现在膜片基材料的标准是PET或者聚酯。PET防水和油的吸收,这对于在整个研磨过程中使用润滑剂的来讲非常重要。早期的膜片不能防止吸收而且在研磨中易于受到表面特点变化的影响,这非常影响研磨效果的一致性、缩短膜片的使用寿命。2 S" O( O% u" H$ G) F" N
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研磨材料和粒子沉淀
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# A$ Q" m d$ i ~ 钻石粒子用于大部分光纤连接器应用中,氧化诰插芯端可以被制成8°度角或者其他端面尺寸。钻石等级间很大差别。高等级的更硬,提供更高效率的研磨而且膜片可以多次使用。最好的研磨剂是由钻石的超精细粒子组成。在涂层过程中,这些粒子必须被均匀地、准确地沉淀,产生最少的突出元素。
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8 x4 R; R: x( X- X 任何研磨粒子的不均匀沉淀都可能引起擦伤和其他对插芯的端面损害,从而减少了生产者的产量。最理想的效果是在最后一个研磨步骤完成之后一个镜面。因此需要使用小于0.1mm的超精细研磨粒子的最终研磨片。# c9 t$ Y8 E6 ]) b# e
7 n/ B( A$ D/ q, B 与研磨过程中使用的粒子类型同样重要的是粒子沉淀技术。为了将氧化镐插芯制成需要的角度,比如较粗糙的沉淀提供更有效的研磨力度。粗糙表面自然会引起插芯端面的一些擦伤,因为膜片的研磨力度一定程度上由膜片基上粒子沉淀不规律性引起。一个好的钻石研磨片不仅有足够的研磨力度制作插芯端,而且能把擦伤减低到几乎没有。如果你发现深层擦伤是一个问题,那么很可能粒子的分布太不规律、膜片表面的突出地方可能成了深孔,而另外的部分没有被研磨到。
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* X( ]: h) x' m 最终的研磨片应该除去所有由钻石研磨片造成的轻微擦伤,端面接近于镜面。最好的最终研磨片使用比钻石研磨力度小得多的硅粒子。沉淀技术在最终抛光阶段跟在研磨阶段一样重要。一种非常好的沉淀是“蜂窝式”。蜂窝式允许沉淀粒子有细小裂缝、提供温和的研磨,而又提供一个“口袋”,多余的粒子可以装进去,减少了粒子擦伤端面的可能性。这种蜂窝式沉淀技术另一个优点是很高程度的连贯性。
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! g* `5 ^! `: @ 最好使用一对膜片(一个用于研磨,一个用于最后的抛光),这被证明是一中很好的选择。 |
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