fanyushan 发表于 2009-11-28 05:52:10

电子枪蒸发镀ITO

各位大侠,我准备在电子枪蒸发镀设备上镀制ITO膜,基材是亚克力或pc塑料,设备带有离子源,有没有实际做过的大侠,大家帮我一把。

1。可行性,离子源需要能量多大?
2.氧化铟锡中IN,Sn,O的比例多少合适?
3。腔体不能加温超过60能做出来么?

weimao_liu 发表于 2009-11-29 08:19:31

不同的薄膜得选取不同的镀制工艺。

weizm 发表于 2010-1-28 08:21:24

这要看你所镀的膜厚的均匀性了,若要均匀的话,功率必须设定恰当的。

280870377 发表于 2012-9-7 10:38:26

摸索中

zhuangzhou 发表于 2015-1-9 09:14:06

同问中

zhulei865 发表于 2022-11-5 11:04:36

长春长光辰谱科技有限公司
页: [1]
查看完整版本: 电子枪蒸发镀ITO