基片温度和氧气流量对磁控溅射制备ITO薄膜光电学性质的影响
基片温度和氧气流量对磁控溅射制备ITO薄膜光电学性质的影响【英文篇名】 Effects of Substrate Temperature and Oxygen Flow Rate on Electrical and Optical Properties of ITO Films Deposited by Magnetron Sputtering
【作者中文名】 裴瑜; 林丽梅; 范丽琴; 瞿燕; 赖发春;
【作者英文名】 PEI Yu; LIN Li-mei; FAN Li-qin; QU Yan; LAI Fa-chun（School of Physics and OptoElectronics Technology; Fujian Normal University; Fuzhou 350007; China）;
【作者单位】 福建师范大学物理与光电信息科技学院;
【文献出处】 福建师范大学学报(自然科学版), Journal of Fujian Normal University(Natural Science Edition), 编辑部邮箱 2009年 01期
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【关键词】 ITO; 薄膜; 磁控溅射; 光电学性质;
【英文关键词】 ITO; film; magetron sputtering; optical and electrical properties;
【摘要】 利用直流磁控溅射技术在BK-7基片上沉积掺锡氧化铟(ITO)透明导电薄膜.研究不同基片温度和氧气流量对薄膜的结构、电学和光学性质的影响,分析光电学性质改变的机理.结果表明,随着氧气流量的增加,载流子浓度(N)不断下降,电阻率(ρ)不断增大,但迁移率(μ)先增大后减小,在氧气流量为0.5cm3/min(1Pa)时有最大值.随着基片温度的上升,N逐渐增加,ρ不断降低,而μ则先增加后减小,在基片温度为200℃时为极大值.所有样品在可见光区的平均光学透过率都大于80%,薄膜的折射率和消光系数从拟合透射光谱数据获得;在1 500 nm光学波长处,折射率随载流子浓度的增加而减小,较好符合线性关系;消光系数随载流子浓度的增大而增加,不符合线性关系.
【英文摘要】 In2O3:Sn(ITO) films were deposited on BK-7 galss substrates by DC magnetron sputtering technique.Effects of oxygen flow rate(FO2) and substrate temperature(Ts) on the electrical and optical properties of the films were investigated.It is found that the carrier concentration(N) monotonously decreases and resistivity(ρ) increases as FO2 increases from 0.0 to 2.0 cm3/min(1Pa).Hall mobility (μ) has the maximum at 0.5 cm3/min(1Pa) FO2.N increases,and ρ decreases as Ts increases from 100 ℃ to 450 ℃.μ has the maxi...
【基金】 福建省自然科学基金资助项目(2007J0317);; 福建省科技厅重点项目(2007H0019);; 福建省教育厅基金资助项目(JB06104JB08065)
【DOI】 CNKI:SUN:FJSZ.0.2009-01-014 某公司招聘,下一位该面试的女孩的英文名是“spring“。秘书欲借机卖弄一下自己的英语水平,喊道：“hi！那个叫‘春’的,轮到你了！ 小泉纯一郎参观农场,记者照了一张他在猪圈和猪一起的照片。次日见报,旁边有附言：左起第三位为小泉纯一郎同志。 顶楼上的
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