可见光区三层减反射膜的设计
可见光区三层减反射膜的设计梁厚蕴 杜军汕头大学科学院非晶半导体组 北京有以金属研究总院粉末所摘 要:本文通过可见光区减反射薄膜材料的选择和设计，采用计算机模拟，找出了在３５０－７５０ｎｍ范围内具有最好光谱中性的减反射膜系ＳｉＯ２│ＴｉＯ２│ＳｉＯ２│下班基底，其结构为１．０│１．４ １．８８ １．４５ ８４ １３０ １６６│１．５２。
关键词:减反射薄膜 可见光区 计算机模拟 设计 薄膜
分类号: O484.41文献标识码：文章编号：栏目信息：
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