光电极值法测厚多层介质膜镀膜机性能的几点改
光电极值法测厚多层介质膜镀膜机性能的几点改进李之慧 陶然·瓦吉地 杨雅丽新疆大学物理系激光室摘 要:我们对“光电极值法”测厚多层介质膜镀膜机的性能作了改进，取得了明显的效果，可以说几个主要指标；如保持基片和膜层的清洁，膜层厚度的相对精度、低消耗电量，设备简单上以及调整光电路的节省时间等，都达到了同类型镀膜机的先进水平。另外，我们的实验还可能对要求保持高度清洁的其它镀膜器件提供一些解决问题的途径。此外，对改进本类型镀膜机的设计也提供了一些重要的参考。[第一段]
关键词:多层介质膜 光电极值法 镀膜机 测厚 膜层厚度 相对精度 先进水平 耗电量 膜器件 类型
分类号: TN929.11 TN304.055[机标]文献标识码：文章编号：栏目信息：论文摘要
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