用于辅助镀膜的霍尔等离子体源

gds 发表于 2007-4-1 02:24:57

用于辅助镀膜的霍尔等离子体源

【会议录名称】 '2001全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集 , 2001 年

【作者】尤大伟; 黄小刚; 武建军;
【作者单位】中科院空间中心;
【会议名称】 '2001全国荷电粒子源、粒子束学术会议
【会议地点】中国深圳
【主办单位】中国电工技术学会电子束离子束专业委员会、粒子加速器学会离子源专业组、中国电子学会焊接专业委员会、北京电机工程学会加速器专业委员会
【学会名称】中国电工技术学会；中国物理学会
【主编】耿漫、过骐千
【关键词】光学镀膜; 离子束辅助镀膜; 等离子体加速;
【论文摘要】上个世纪八十年代以来,人们在制造高质量的光学薄膜时,更加重视等离子体离子的动量传递的辅助作用,它对改进膜的附着力、致密度、吸收度、折射率、结晶结构都大有益处。目前普遍使用的有栅考夫曼或射频离子源,无栅的APS源均具有控制精确、能量单色性好及束发散角小的优点。但又具有结构复杂、体积庞大的缺点。在电推进技术地面应用的发展过程中考夫曼发展了无栅霍尔源技术,它很适合辅助镀膜工艺,其特出的特点是小型化,结构紧凑、易于拆装;只需二个简单的电源就可以产生满足辅助镀膜所需要的低能(平均能量40-150ev)、大束流(200-1000ma)、大均匀区(40cm)。为了满足光学辅助镀膜的需要,我们设计制造了6cm霍尔等离子体离子源。该源主要性能如下: 源尺寸(直径×长度)φ14cm×14cm;真空室直径φ50-100cm;照射距离30-50cm;离子束平均能量40-120ev;离子束流可到 400ma;工作压力<3×10~(-4)Torr;磁场:永久磁铁;气体流量5-10 Sccm。该源具有较大的能散度及较大的发散角,此外工作的稳定性要受工作气压的影响。本文论述了该源的工作原理,讨论并测...

pluto 发表于 2007-4-1 02:45:24

感谢您的参与与分享

gb5808 发表于 2007-5-23 13:37:37

谢谢。

winampsukai 发表于 2007-12-26 00:13:39

谢谢分享

yuancy 发表于 2011-4-22 19:36:38

比较老的资料哦

280870377 发表于 2012-9-6 14:37:57

个人觉得还是考夫曼的离子源比较靠谱！
国产的霍尔源就不要考虑啦！

copland 发表于 2012-9-26 19:56:54

发表的比较早啊，谢谢分享

copland 发表于 2012-9-26 20:04:31

caj 文件，我的天！！！！

chen1982 发表于 2013-4-25 22:26:11

谢谢

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